久印微弧氧化研究了对Na H2PO 4体系和Na OH体系电解液中不同电流密度下电解 液温度与微弧氧化成膜的关系后得出，电流密度高，成膜速率快，且随着溶液温度的 升高成膜速率在逐渐降低；溶液温度高于40℃时，成膜速率又降下来。可见电解液 温度对工艺的影响也较大，在微弧氧化过程中也相当重要。因微弧氧化过程会产生大 量热量，引起水温升高，溶液温度过高，易出现飞溅，陶瓷层也易被局部烧焦或击穿， 会影响氧化膜的质量。因此，对该项技术而言，必须有一个良好的冷却系统以保证 微弧氧化顺利进行，一般电解液温度应控制在40℃以下，并进行必要的搅拌。 综上可以看出，电源性质、电压、电流密度、电解液配方及电解液温度对微弧氧 化最终所得陶瓷层的质量影响较大。